| 发明名称 | 靶材的处理方法 | ||
| 摘要 | 一种靶材的处理方法，包括：提供靶材，所述靶材包括边缘区域的非溅射区；对所述靶材的非溅射区表面进行喷砂处理，形成粗糙面；对所述粗糙面进行熔射处理，在所述非溅射区表面形成膜层。经喷砂处理后，靶材的非溅射区表面形成粗糙面；接着，对粗糙面进行熔射处理形成膜层，由于粗糙面凹凸不平，熔化的粉末很容易在粗糙面着陆，而不会滚落。相比于单纯的喷砂处理，经喷砂、熔射处理后的非溅射区表面形成的膜层与非溅射区表面的粘附性强。在将本技术方案的靶材应用到真空溅射较长时间时，即使靶材原子形成堆积，膜层也不会脱落，保持溅射参数稳定。而且，这显著提高了靶材的使用寿命，最终可提升多于50%的靶材寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN104419902A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201310396542.0 | 申请日期 | 2013.09.03 |
| 申请人 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 发明人 | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;徐清锋 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C4/02(2006.01)I;C23C4/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 张亚利;骆苏华 |
| 主权项 | 一种靶材的处理方法，其特征在于，包括：提供靶材，所述靶材包括边缘区域的非溅射区；对所述靶材的非溅射区表面进行喷砂处理，形成粗糙面；对所述粗糙面进行熔射处理，在所述非溅射区表面形成膜层。 | ||
| 地址 | 315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号 | ||