| 发明名称 | 传送装置和传送系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种传送装置和传送系统，所述传送装置包括:第一传送单元，其包括沿着相对于水平方向成角度的第一方向的第一传送通道，并且沿所述第一方向传送介质；返回传送单元，其朝向第二方向传送所述介质，所述第二方向具有与所述第一方向反向的分量；第二传送单元，其包括沿着所述第二方向的第二传送通道，并且沿所述第二方向传送所述介质；第一处理单元，其布置在所述第一传送通道上，并且对传送中的所述介质的第一面执行处理；以及第二处理单元，其布置在比所述第一处理单元更靠近所述返回传送单元的位置处，并且对传送中的所述介质的第二面执行处理。 | ||
| 申请公布号 | CN104418121A | 申请公布日期 | 2015.03.18 |
| 申请号 | CN201410083571.6 | 申请日期 | 2014.03.07 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 蜂须贺正树;古谷孝男;岩城能成;相川清史;莳田圣吾;望月善雄;青木英司;森达吉至 |
| 分类号 | B65H5/00(2006.01)I | 主分类号 | B65H5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 顾红霞;龙涛峰 |
| 主权项 | 一种传送装置，包括：第一传送单元，其包括沿着相对于水平方向成角度的第一方向的第一传送通道，并且沿所述第一方向传送介质；返回传送单元，其朝向第二方向传送由所述第一传送单元传送来的所述介质，所述第二方向具有与所述第一方向反向的分量；第二传送单元，其包括沿着所述第二方向的第二传送通道，并且沿所述第二方向传送由所述返回传送单元传送来的所述介质；第一处理单元，其布置在所述第一传送通道上，并且对传送中的所述介质的第一面执行处理；以及第二处理单元，其布置在介质传送路径中所述第一处理单元的下游侧并且布置在比所述第一处理单元更靠近所述返回传送单元的位置处，并且对传送中的所述介质的第二面执行处理，所述第二面在所述第一面的相对侧。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||