用于图案化晶圆之特征的方法与装置;METHODS AND APPARATUS FOR PATTERNED WAFER CHARACTERIZATION

摘要

本发明揭示用于特征化一半导体晶圆上复数个所关注结构之装置及方法。自一度量衡系统之一或多个感测器，依复数个方位角，自一特定所关注结构量测复数个光谱信号。基于针对该等方位角而获得之该光谱信号来判定一光谱差值。基于分析该光谱差值来判定及报告该特定所关注结构之一品质指示。