发明名称 |
用于在电子装置中金属积覆之铜合金阻障层及覆盖层;COPPER-ALLOY BARRIER LAYERS AND CAPPING LAYERS FOR METALLIZATION IN ELECTRONIC DEVICES |
摘要 |
在各个实施例中,诸如薄膜电晶体及/或触控面板显示器等电子装置纳入电极及/或互连,其特征在于导体层及布置于该导体层上方或下方之覆盖层及/或阻障层,该覆盖层及/或阻障层包含Cu及一或多种选自由Ta、Nb、Mo、W、Zr、Hf、Re、Os、Ru、Rh、Ti、V、Cr及Ni组成之群之耐火金属元素之合金。 |
申请公布号 |
TW201511290 |
申请公布日期 |
2015.03.16 |
申请号 |
TW103119606 |
申请日期 |
2014.06.05 |
申请人 |
史达克公司 H.C. STARCK INC. |
发明人 |
孙恕伟 SUN, SHUWEI;戴立 法兰寇司 查尔斯 DARY, FRANCOIS-CHARLES;亚鲍夫 马克 ABOUAF, MARC;后根 派崔克 HOGAN, PATRICK;张起 ZHANG, QI |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |