发明名称 用于在电子装置中金属积覆之铜合金阻障层及覆盖层;COPPER-ALLOY BARRIER LAYERS AND CAPPING LAYERS FOR METALLIZATION IN ELECTRONIC DEVICES
摘要 在各个实施例中,诸如薄膜电晶体及/或触控面板显示器等电子装置纳入电极及/或互连,其特征在于导体层及布置于该导体层上方或下方之覆盖层及/或阻障层,该覆盖层及/或阻障层包含Cu及一或多种选自由Ta、Nb、Mo、W、Zr、Hf、Re、Os、Ru、Rh、Ti、V、Cr及Ni组成之群之耐火金属元素之合金。
申请公布号 TW201511290 申请公布日期 2015.03.16
申请号 TW103119606 申请日期 2014.06.05
申请人 史达克公司 H.C. STARCK INC. 发明人 孙恕伟 SUN, SHUWEI;戴立 法兰寇司 查尔斯 DARY, FRANCOIS-CHARLES;亚鲍夫 马克 ABOUAF, MARC;后根 派崔克 HOGAN, PATRICK;张起 ZHANG, QI
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国 US