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发明名称
垂直共振腔面射型雷射及其制造方法
摘要
垂直共振腔面射型雷射〔1〕具备,第1反射镜层〔11〕、第2反射镜层〔15〕、活性层〔13〕、电流狭窄层〔16〕。电流狭窄层〔16〕包含,氧化部〔17〕及被氧化部〔17〕围绕之未氧化部〔18〕。藉由于电流狭窄层〔16〕之氧化部〔17〕之相邻区域注入离子形成高电阻区域〔25〕。由与基板〔10〕垂直之方向来看,高电阻区域〔25〕与电流狭窄层〔16〕之未氧化部〔18〕分离。
申请公布号
TW201511433
申请公布日期
2015.03.16
申请号
TW103127170
申请日期
2014.08.08
申请人
村田制作所股份有限公司 MURATA MANUFACTURING CO., LTD.
发明人
鸟塚哲郎 TORITSUKA, TETSURO
分类号
H01S5/183(2006.01)
主分类号
H01S5/183(2006.01)
代理机构
代理人
阎启泰林景郁
主权项
地址
日本 JP
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