| 摘要 |
溅镀装置，系具备：腔室；供以在前述腔室之中保持基板的基板保持器；供以保持靶材之靶材保持器；配置于前述基板保持器与前述靶材保持器之间，具有前述基板保持器之侧的第1面及前述第1面之相反侧的第2面之遮挡件；具有包含与前述遮挡件之前述第2面对向之部分的第3面及前述第3面之相反侧的第4面之第1屏蔽；具有包含与前述遮挡件之端部及前述第1屏蔽之端部对向之部分的第5面之第2屏蔽；以及对于以连通于形成在前述遮挡件之前述第2面与前述第1屏蔽的前述第3面之间的第1间隙之方式而配置于前述第1屏蔽的外侧之气体扩散空间供应气体之供气部。前述第2屏蔽，系在与前述遮挡件的端部之间包含以构成第2间隙之方式而从前述第5面突出之突出部。 |
