发明名称 气体阻隔性层积体、电子装置用构件及电子装置
摘要 本发明系具有基材及气体阻隔性单元,其特征在于:上述气体阻隔性单元,至少包含2层无机层,上述至少2层的无机层之中,至少1层系氧氮化矽层,上述氧氮化矽层,系厚度为25nm以上,于层中对厚度方向随着向基材侧,氧元素的存在比减少,而氮元素的存在比增加的倾斜组成区域,上述倾斜组成区域的厚度,对氧氮化矽层全体的厚度之比为0.15以上之气体阻隔性层积体;由该气体阻隔性层积体构成之电子装置用构件、及包括该电子装置用构件之电子装置。根据本发明,可提供具有极高的气体阻隔性与耐折弯性的气体阻隔性层积体,由该气体阻隔性层积体组成之电子装置用构件,以及包括上述电子装置用构件之电子装置。
申请公布号 TW201509660 申请公布日期 2015.03.16
申请号 TW103111650 申请日期 2014.03.28
申请人 琳得科股份有限公司 LINTEC CORPORATION 发明人 铃木悠太 SUZUKI, YUUTA;岩屋涉 IWAYA, WATARU;永元公市 NAGAMOTO, KOICHI;近藤健 KONDO, TAKESHI
分类号 B32B27/28(2006.01);B32B33/00(2006.01) 主分类号 B32B27/28(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本 JP