发明名称 |
形成基板开口之方法;METHODS OF FORMING A SUBSTRATE OPENING |
摘要 |
本发明揭示一种形成一基板开口之方法,该方法包含在一基板中形成复数个并排开口。紧邻并排开口中之至少某些开口在该基板中形成至相对于彼此不同之深度。横向介于该等并排开口之间的壁经移除以形成一较大开口,该较大开口具有一非垂直侧壁表面,其中在通过正交于该等经移除壁之该侧壁表面之至少一个直线垂直剖面中移除该等壁。 |
申请公布号 |
TW201511126 |
申请公布日期 |
2015.03.16 |
申请号 |
TW103116294 |
申请日期 |
2014.05.07 |
申请人 |
美光科技公司 MICRON TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
凯尔包区 马克 KIEHLBAUCH, MARK |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |