| 发明名称 |
矽构材及矽构材之制造方法;SILICON MEMBER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME |
| 摘要 |
提供即使在加热之环境下作使用的情况下仍可抑制破裂之发生的矽构材及矽构材之制造方法。一种矽构材(10)，在加热之环境下所使用，特征在于：具有被覆表面之涂布层(11)，涂布层(11)系以藉使表面的矽产生反应而形成之矽的反应物所构成，此涂布层(11)的厚度为15nm以上、600nm以下。于此，涂布层系采用矽氧化膜、或者氮化矽膜较佳。 |
| 申请公布号 |
TW201509798 |
申请公布日期 |
2015.03.16 |
| 申请号 |
TW103111493 |
申请日期 |
2014.03.27 |
| 申请人 |
三菱综合材料股份有限公司 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION |
发明人 |
中田嘉信 NAKADA, YOSHINOBU |
| 分类号 |
C01B33/02(2006.01);H01L21/683(2006.01);C23C18/16(2006.01);H01L21/02(2006.01);G02F1/13(2006.01) |
主分类号 |
C01B33/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
