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发明名称
离型膜
摘要
本发明之目的在于提供一种适于制造可挠电路基板之离型膜,该离型膜可在维持离型性下抑制产生皱纹。本发明系一种离型膜,该离型膜适于制造可挠电路基板,表面及背面经粗面化,该表面之十点平均粗糙度Rz在4μm以上20μm以下,且构成该背面之离型层的厚度在35μm以上(惟,不包括该表面之十点平均粗糙度Rz在4μm以上5μm以下,且构成该背面之离型层的厚度在35μm以上36μm以下之情形)。
申请公布号
TW201509684
申请公布日期
2015.03.16
申请号
TW103126557
申请日期
2014.08.04
申请人
积水化学工业股份有限公司 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD.
发明人
中尾洋佑 NAKAO, YOHSUKE;土谷雅弘 TSUCHIYA, MASAHIRO;宇都航平 UTO, KOUHEI
分类号
B32B7/06(2006.01);B32B27/36(2006.01);C08J5/18(2006.01);H05K3/46(2006.01)
主分类号
B32B7/06(2006.01)
代理机构
代理人
阎启泰林景郁
主权项
地址
日本 JP
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