发明名称 烧结体、由该烧结体构成之磁记录膜形成用溅镀靶
摘要 一种烧结体,其系由至少含有钴作为金属且选自硼及/或铂族元素中之一种以上的金属或合金与氧化物构成,其特征在于:于由该氧化物构成之相存在Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6中之至少一种以上。于靶中存在有Cr(BO3)、Co2B2O5、Co3B2O6之化合物的烧结体可维持微细之组织,且可得到由对水稳定之烧结体构成的磁记录膜形成用烧结体。
申请公布号 TW201510232 申请公布日期 2015.03.16
申请号 TW103114808 申请日期 2014.04.24
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 发明人 高见英生 TAKAMI, HIDEO;中村佑一郎 NAKAMURA, YUICHIRO;池田佑希 IKEDA, YUKI;荻野真一 OGINO, SHIN-ICHI
分类号 C22C19/07(2006.01);C22C5/04(2006.01);C22C32/00(2006.01);C23C14/34(2006.01);G11B5/738(2006.01);G11B5/851(2006.01);B22F3/11(2006.01) 主分类号 C22C19/07(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰林景郁
主权项
地址 日本 JP
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