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发明名称
利用场区与特征部之对比的矽通孔电镀浴的评估;TSV BATH EVALUATION USING FIELD VERSUS FEATURE CONTRAST
摘要
在此之实施例关于用以判定特定测试电镀浴是否能够成功填充基板上之特征部的方法及设备。在不同情况中,基板为半导体基板且特征部为矽通孔。概略而言,使用二实验:第一实验模拟在填充制程期间存在于基板之场区区域的条件,而第二实验模拟在填充制程期间存在于基板上之特征部中的条件。来自该等实验的结果可与不同技术一起使用,俾以预测特定电镀浴是否将造成充分填充之特征部。
申请公布号
TW201510293
申请公布日期
2015.03.16
申请号
TW103120592
申请日期
2014.06.13
申请人
兰姆研究公司 LAM RESEARCH CORPORATION
发明人
李 柏根 LEE, BROGAN;迈尔 史蒂芬T MAYER, STEVEN T.;索伦 麦修 THORUM, MATTHEW;理察森 乔瑟夫 RICHARDSON, JOSEPH;波特 大卫W PORTER, DAVID W.;傅海鹰 FU, HAIYING
分类号
C25D21/12(2006.01);C25D21/14(2006.01);C25D7/12(2006.01)
主分类号
C25D21/12(2006.01)
代理机构
代理人
许峻荣
主权项
地址
美国 US
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