| 摘要 |
Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes, in welchem ein Objektfeld (3) einer nachfolgenden abbildenden Optik (6) angeordnet ist. Im Objektfeld (3) ist wiederum ein in einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbares Objekt (5) anordenbar. Ein Facettenspiegel (14) der Beleuchtungsoptik hat eine Mehrzahl nebeneinander angeordneter Facetten (13) zur reflektierenden, überlagernden Führung von Teilbündeln (9i) eines Bündels von EUV-Beleuchtungslicht (9) zum Objektfeld (3). Der Facettenspiegel (14) ist so angeordnet, dass eine Lage der jeweiligen Facette (13) auf dem Facettenspiegel (14) und ein Beaufschlagungsbereich eines Beleuchtungslicht-Teilbündels (9i) auf der jeweiligen Facette (13) des Facettenspiegels (14) eine Beleuchtungsrichtung für die Feldpunkte des Objektfeldes (3) vorgibt. Eine Randkontur des Beaufschlagungsbereiches des Beleuchtungslicht-Teilbündels (9i) auf der jeweiligen Facette (13) gibt eine Feldform des Objektfeldes (3) vor. Jede der Facetten (13) weist eine zusammenhängende statische Reflexionsfläche (15) auf. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der ein spekularer Reflektor mit im Vergleich zum Stand der Technik verringertem Herstellungsaufwand realisiert werden kann. |
