| 发明名称 | 有机无机复合体及其形成用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于提供一种在热固化处理中可作为基体与金属蒸镀膜等之间的锚定涂层使用的锚定涂层剂。可作为本发明锚定涂层剂使用的有机无机复合体形成用组合物含有以下成分。a)有机硅化合物和/或其缩合物，该有机硅化合物是式(I)表示的至少1种并且是(Si1)，R<sub>n</sub>SiX<sub>4-n</sub>…(I)(式中，R表示碳原子直接键合于Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2，n为2时各R可以相同也可以不同，(4-n)为2以上时各X可以相同也可以不同)，所述(Si1)是通过Fedors的推算法求出的R的溶解度参数(SP1)小于通过Fedors的推算法求出的热固性化合物的溶解度参数(SP2)且其差为1.6以上的有机硅化合物；和b)热固性化合物(其中，不包括烯烃系聚合物)。 | ||
| 申请公布号 | CN104411773A | 申请公布日期 | 2015.03.11 |
| 申请号 | CN201380036104.1 | 申请日期 | 2013.07.05 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 山手太轨 |
| 分类号 | C08L101/00(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I;C08K5/5419(2006.01)I;C08L83/04(2006.01)I;C07F7/18(2006.01)I | 主分类号 | C08L101/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 金世煜;苗堃 |
| 主权项 | 一种有机无机复合体形成用组合物，含有:a)有机硅化合物和/或其缩合物，该有机硅化合物是式(I)表示的至少1种并且是Si1，R<sub>n</sub>SiX<sub>4‑n</sub>…(I)式中，R表示碳原子直接键合于Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团，n表示1或2，n为2时各R可以相同也可以不同，(4‑n)为2以上时各X可以相同也可以不同，所述Si1是通过Fedors的推算法求出的R的溶解度参数SP1小于通过Fedors的推算法求出的热固性化合物的溶解度参数SP2且其差为1.6以上的有机硅化合物；和b)热固性化合物，其中，不包括烯烃系聚合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||