| 发明名称 | 一种双色真空镀膜工艺 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种双色真空镀膜工艺，包括以下步骤：在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜；在第一PVD膜上涂覆漆膜；在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；去除漆膜。本发明双色真空镀膜工艺通过雕刻图案，可以得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案；图案颜色丰富，可采用现有任意的PVD颜色，不局限于Ti、Zr靶材的颜色。 | ||
| 申请公布号 | CN104404448A | 申请公布日期 | 2015.03.11 |
| 申请号 | CN201410591612.2 | 申请日期 | 2014.10.28 |
| 申请人 | 深圳市鑫景源科技有限公司 | 发明人 | 石春放;段宁波;段小燕 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;B44C1/22(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 | 代理人 | 杜启刚 |
| 主权项 | 一种双色真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：101)在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜；102)在第一PVD膜上涂覆漆膜；103)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度等于或大于漆膜厚度；104)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；105)去除漆膜。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市光明新区公明办事处李松蓢社区第二工业区荣泰佳厂房五栋4楼 | ||