发明名称 |
像素结构的制造方法及液晶显示面板的制造方法 |
摘要 |
一种像素结构及液晶显示面板的制造方法,像素结构的制造方法包括在基板上形成通道、栅绝缘层、第一图案化导电层、第一绝缘层与第二图案化导电层,第一图案化导电层包括栅极,第二图案化导电层包括源极与漏极,源极、栅极与漏极电性连接通道,在基板上方形成第二绝缘层以覆盖漏极,在第二绝缘层上形成图案化平坦层,图案化平坦层具有第一接触窗,第一接触窗暴露第二绝缘层,移除部分位于第一接触窗内的第二绝缘层以形成第二接触窗,第二接触窗暴露漏极,在图案化平坦层上形成像素电极,其通过第二接触窗而电性连接漏极。 |
申请公布号 |
CN104407463A |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN201410733936.5 |
申请日期 |
2014.12.05 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
吕思慧;李明贤 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
梁挥;祁建国 |
主权项 |
一种像素结构的制造方法,其特征在于,包括:在一基板上形成一通道、一栅绝缘层、一第一图案化导电层、一第一绝缘层与一第二图案化导电层,其中该第一图案化导电层包括一栅极,该第二图案化导电层包括一源极与一漏极,该源极与该漏极电性连接该通道并与该栅极构成一薄膜晶体管;在该基板上方形成一第二绝缘层以覆盖该漏极;在该第二绝缘层上形成一图案化平坦层,其中该图案化平坦层具有一第一接触窗,该第一接触窗暴露该第二绝缘层;移除部分位于该第一接触窗内的该第二绝缘层以形成一第二接触窗,其中该第二接触窗暴露该漏极;以及在该图案化平坦层上形成一像素电极,其中该像素电极通过该第二接触窗而电性连接该漏极。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 |