发明名称 |
制造印刷版的方法 |
摘要 |
本发明在此公开一种制造能够防止印刷辊接触印刷版底面的印刷版的方法。所述制造印刷版的方法包括在基板上形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案;形成抗性强化诱导层以覆盖所述光刻胶图案,从而使所述光刻胶图案转化为抗性被强化的光刻胶图案;以及通过使用所述抗性被强化的光刻胶图案以及所述具有多层结构的掩模薄膜图案作为掩模蚀刻所述基板,形成彼此具有不同深度的凹槽图案。 |
申请公布号 |
CN102909983B |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN201210273572.8 |
申请日期 |
2012.08.02 |
申请人 |
乐金显示有限公司 |
发明人 |
李濬熙;李政训 |
分类号 |
B41N1/04(2006.01)I;B41C3/08(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41N1/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;钟强 |
主权项 |
一种制造印刷版的方法,包括:在基板上形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案;形成抗性强化诱导层以覆盖所述光刻胶图案,从而使所述光刻胶图案转化为抗性被强化的光刻胶图案;以及通过使用所述抗性被强化的光刻胶图案以及所述具有多层结构的掩模薄膜图案作为掩模蚀刻所述基板,形成彼此具有不同深度的凹槽图案,其中形成具有多层结构的掩模薄膜图案和光刻胶图案包括:在所述基板上形成第一掩模薄膜层;在形成有所述第一掩模薄膜层的基板上形成第一光刻胶图案;使用所述第一光刻胶图案作为掩模使所述第一掩模薄膜层图案化,以形成第一掩模薄膜图案;在形成有所述第一掩模薄膜图案的基板上形成第二掩模薄膜层;在所述第二掩模薄膜层上形成第二光刻胶图案;以及使用所述第二光刻胶图案作为掩模使所述第二掩模薄膜层图案化,以形成第二掩模薄膜图案。 |
地址 |
韩国首尔 |