发明名称 |
基于液相过滤的低压等离子喷涂制备柱状陶瓷涂层的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于液相过滤的低压等离子喷涂制备柱状陶瓷涂层的方法,在进行低压等离子喷涂时,在喷枪与基体之间设置遮挡装置以阻止液相粒子穿过,该遮挡装置允许气相沉积材料或具有布朗运动特性的粒子绕过并沉积于基体上。本发明方法面向低压等离子喷涂系统条件难以获得全部气相的条件下,通过采用对液相粒子的遮挡装置,使气相或具有布朗运动特性的物质能够绕过遮挡物而沉积在基体上形成具有柱状结构的陶瓷涂层。该方法为获得全部气相沉积涂层的等离子喷涂系统应用提供了切实可行的和较为经济的方法。 |
申请公布号 |
CN104404436A |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN201410690647.1 |
申请日期 |
2014.11.25 |
申请人 |
西安交通大学 |
发明人 |
李长久;李成新;杨冠军;陈清宇 |
分类号 |
C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I |
主分类号 |
C23C4/12(2006.01)I |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 61200 |
代理人 |
陆万寿 |
主权项 |
基于液相过滤的低压等离子喷涂制备柱状陶瓷涂层的方法,其特征在于,在进行低压等离子喷涂时,在喷枪与基体之间设置遮挡装置以阻止液相粒子穿过,该遮挡装置允许气相沉积材料或具有布朗运动特性的粒子绕过并沉积于基体上。 |
地址 |
710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号 |