发明名称 阵列基板及其制造方法、显示装置
摘要 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置。所述阵列基板包括形成在衬底上的栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏层、扫描线以及信号线,所述信号线与所述栅极层同层设置,所述扫描线与所述源漏层同层设置,所述栅绝缘层位于所述栅极层、所述信号线和所述有源层之间;所述阵列基板还包括贯穿所述栅绝缘层的第一过孔和第二过孔,所述信号线通过所述第一过孔与所述源漏层相连,所述扫描线通过所述第二过孔与所述栅极层相连。本发明可以在不对其他结构的形成工艺造成过多影响的前提下增大栅极金属层的厚度,从而抑制IR Drop所造成的影响。
申请公布号 CN104409462A 申请公布日期 2015.03.11
申请号 CN201410796484.5 申请日期 2014.12.18
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 张立;闫梁臣;陈江博
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨
主权项 一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括形成在衬底上的栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏层、扫描线以及信号线,所述信号线与所述栅极层同层设置,所述扫描线与所述源漏层同层设置,所述栅绝缘层位于所述栅极层、所述信号线和所述有源层之间;所述阵列基板还包括贯穿所述栅绝缘层的第一过孔和第二过孔,所述信号线通过所述第一过孔与所述源漏层相连,所述扫描线通过所述第二过孔与所述栅极层相连。
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