| 主权项 |
一种成膜装置，系于反应室内藉由将会相互反应之至少2种反应气体交替地供给至基板表面并实施该循环来沉积多层反应生成物而形成薄膜，该成膜装置具备有：一回转台，系设置于该反应室内；一基板载置部，系设置于该回转台而用以载置基板；一第1反应气体供给部与一第2反应气体供给部，系沿该回转台的回转方向相互分离地设置，而用以将第1反应气体及第2反应气体供给至基板之载置区域侧的面；一分离区域，系为了分离供给有该第1反应气体的第1处理区域与供给有第2反应气体的第2处理区域的气氛，而沿该回转方向位于该等处理区域之间；一中心区域，系位于反应室的中心部处以将该第1处理区域与第2处理区域的气氛加以分离，并于回转台之基板载置面侧形成有喷出分离气体之喷气孔；以及一排气口，系设置于该反应室内以将该反应室排空；其中该分离区域系具备供给分离气体之分离气体供给部，以及一顶面(ceiling surface)，该顶面系用以在与回转台之间形成有一能使该分离气体供给部所供给之分离气体沿该回转方向而从该分离区域流向处理区域侧之狭窄空间；
该顶面系构成为朝向该反应室的外缘，则沿着该回转方向之宽度便愈大之型态；从该回转台至该顶面的高度尺寸系较该第1处理区域及该第2处理区域的各高度尺寸要小。
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