发明名称 |
薄膜晶体管 |
摘要 |
一种薄膜晶体管,其包括基板、缓冲层、图案化多晶硅层、栅极介电层以及多个栅极。图案化多晶硅层配置在缓冲层与基板上,图案化多晶硅层具有多个信道区、至少一重掺杂区、二轻掺杂区、一源极区与一漏极区,其中重掺杂区连接于二相邻的信道区之间,源极区通过其中一轻掺杂区与一最外侧的信道区连接,且漏极区通过另一轻掺杂区与另一最外侧的信道区连接。栅极介电层覆盖图案化多晶硅层。多个栅极配置在栅极介电层上,其中这些栅极彼此电性连接,且各栅极位于其中一信道区与部分重掺杂区上方。 |
申请公布号 |
CN101304047B |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN200810128327.1 |
申请日期 |
2008.07.07 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
徐源竣;石靖节;林昆志 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
郭蔚 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,包括:一基板;一图案化多晶硅层,配置在该基板上,该图案化多晶硅层具有多个信道区、至少一重掺杂区、二轻掺杂区、一源极区与一漏极区,其中该重掺杂区连接于二相邻的信道区之间,该源极区通过其中一轻掺杂区与一最外侧的信道区连接,且该漏极区通过另一轻掺杂区与另一最外侧的信道区连接;一栅极介电层,覆盖该图案化多晶硅层;以及多个栅极,配置在该栅极介电层上,其中该些栅极彼此电性连接,各该栅极位于其中一信道区与部分重掺杂区上方,该栅极自该信道区上方延伸至部分重掺杂区上方,其中该些栅极不与该轻掺杂区重叠;其中,该重掺杂区与该信道区之间不具有轻掺杂区;该源极区、该重掺杂区与该漏极区的掺杂浓度彼此相当。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 |