发明名称 |
正型光阻组成物及图案形成方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI476532 |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
TW101139135 |
申请日期 |
2012.10.23 |
申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
谷口良辅;小林知洋;旱田山润;船津显之;金山昌广 |
分类号 |
G03F7/039;C08F220/18;C08F220/26;C08F220/32;C08F220/38;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
主权项 |
一种正型光阻组成物,其特征为包含以下成分:(A)硷溶解性因酸而提升的树脂,含有包含酸不稳定基的重复单元(a1)、具有环状烃基且在其环内含有酯基、醚基、碳酸酯基或磺酸酯基中之至少1种的重复单元(a2)、具有环氧乙烷环的重复单元(a3)、以及下述通式(10)所示的重复单元(a4);(B)光酸产生剂;以及(C)溶剂;
(式中,R23表示氢原子或甲基;X4为碳数1~20之直链状或分支状的伸烷基、-O-R24-、或-C(=O)-X5-R24-,且伸烷基之碳原子所键结之氢原子亦可被氟原子取代;X5表示氧原子或NH,R24表示碳数1~25之直链状、分支状或环状的伸烷基,且亦可包含羰基、酯基或醚基;再者,R24之键结于碳原子的氢原子亦可被氟原子取代;M1+表示具有取代基的鋶阳离子、錪阳离子中之任一者)。 |
地址 |
日本 |