一种真空镀膜系统的样品室结构

摘要

本发明涉及一种真空镀膜系统的样品室结构，包括：真空腔，该真空腔的顶部固定连接有基准板；所述基准板上均布有若干个定位孔；安装于所述基准板下表面的真空纳米定位平台，真空纳米定位平台通过基准板将热量传递给真空腔的腔壁；所述真空纳米定位平台上安装有基片；真空纳米定位平台的下方设有掩膜支架，掩膜支架与基准板固定连接，且掩膜支架具有掩膜安装孔；所述真空腔的侧面设有激光尺光路口和多个功能接口；该真空腔还具有腔体门。本发明通过设计全新的样品室结构，实现了特定形状的镀膜沉积。

主权项

一种真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，包括：真空腔，该真空腔的顶部固定连接有基准板；所述基准板上均布有若干个定位孔；安装于所述基准板下表面的真空纳米定位平台，真空纳米定位平台通过基准板将热量传递给真空腔的腔壁；所述真空纳米定位平台上安装有基片；所述真空纳米定位平台的下方设有掩膜支架，掩膜支架与基准板固定连接，且掩膜支架具有掩膜安装孔；所述真空腔的侧面设有激光尺光路口和多个功能接口；该真空腔还具有腔体门。