| 发明名称 |
光阻材料与其在基板上形成图案的方法及半导体装置的制造方法 |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
TWI476520 |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
| 申请号 |
TW102118185 |
申请日期 |
2013.05.23 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
张庆裕 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
| 主权项 |
一种光阻材料，包括：一溶剂；一光酸产生剂(PAG)；以及一淬灭剂(quencher)，其中，该光酸产生剂之结构如下：
R1为直链、支链、或环状单键碳氢基，-(CH2)n-与R1中至少一者取代有氟或氟烷基，n介于1到10之间，R2、R3、与R4各自为苯甲基团或具有氟或氟烷基取代之苯甲基团。 |
| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
