移除光阻之方法与设备

主权项

一种自一晶圆中移除光阻的方法，该方法包括：提供包含SO2、H2O与O2的一处理气体；在第一腔室中由该处理气体产生一电浆；使富有自由基且少离子的反应介质自该第一腔室流至放置一晶圆的第二腔室，该晶圆在其上具有一图形化光阻层；使用该反应介质移除该图形化光阻层；及终止流进该第二腔室的该反应介质，其中该方法更包括：藉由在一溶解区中引进水蒸气以溶解该反应介质，俾在该反应介质抵达该晶圆前，使该水蒸气在该反应介质的物种周遭凝聚以形成溶解的团簇，而该溶解区设立在自该电浆向下流动之该反应介质的通道中。