发明名称 |
掩膜板及其制备方法和清洁方法 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种掩膜板的制备方法、掩膜板及掩膜板的清洁方法,其中,所述掩膜板的制备方法包括:提供一基板,制备纳米溶胶涂层的前驱溶液,所述纳米溶胶涂层的前驱溶液包括含钛化合物和微酸性溶液,将所述纳米溶胶涂层的前驱溶液沉积在所述基板的表面,对表面沉积有纳米溶胶涂层的前驱溶液的基板进行高温处理形成二氧化钛薄膜。本发明实施例提供的掩膜板的制备方法制备的掩膜板能实现大面积的掩膜板清洁并能够避免擦拭过程中对掩膜板造成磨损。 |
申请公布号 |
CN104407497A |
申请公布日期 |
2015.03.11 |
申请号 |
CN201410817080.X |
申请日期 |
2014.12.19 |
申请人 |
上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
发明人 |
姚宇环 |
分类号 |
G03F1/62(2012.01)I;G03F1/82(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/62(2012.01)I |
代理机构 |
北京品源专利代理有限公司 11332 |
代理人 |
路凯;胡彬 |
主权项 |
一种掩膜板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:步骤A:提供一基板;步骤B:制备纳米溶胶涂层的前驱溶液,所述纳米溶胶涂层的前驱溶液包括含钛化合物和微酸性溶液;步骤C:将所述纳米溶胶涂层的前驱溶液沉积在所述基板的表面;步骤D:对表面沉积有纳米溶胶涂层的前驱溶液的基板进行高温处理形成二氧化钛薄膜。 |
地址 |
200120 上海市浦东新区龙东大道6111号1幢509室 |