发明名称 口腔用组成物及其用途
摘要
申请公布号 TWI476007 申请公布日期 2015.03.11
申请号 TW098117365 申请日期 2009.05.25
申请人 美国棕榄公司 发明人 诺瓦克 安德鲁;皮尔希 雪拉;马斯特 吉姆
分类号 A61K8/25;A61Q11/00 主分类号 A61K8/25
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种口腔用组成物,其包括口腔可接受的载剂;占该组成物之1重量%至95重量%之二氧化矽磨料,该二氧化矽磨料包括一具有8μm至11μm的平均粒径、于174,000回转下为5至10的Einlehner硬度、及2.3μm至2.6μm之d10之二氧化矽化合物,且具有70cc/100g至110cc/100g的吸油量;氟化物离子源,其包括选自氟化锡(II)、氟化钠、氟化钾、单氟磷酸钠、氟矽酸钠、氟矽酸铵、氟化胺、氟化胺氟化铵、及其组合之氟化物盐;界面活性剂,其系选自月桂基硫酸钠、椰油醯胺基丙基甜菜硷、及其组合;保湿剂,选自甘油、山梨醇及其组合;聚合物,选自聚乙二醇、聚乙烯基甲基醚顺丁烯二酸共聚物、多醣类、及其组合;与抗菌剂,选自经卤化的二苯基醚、草本萃取物或精油、双胍防腐剂、四级铵化合物、酚类防腐剂、海克西定(hexetidine)、聚维酮碘(povidone iodine)、地莫前列素(delmopinol)、salifluor、金属离子、血根硷、蜂巢蜡胶、及氧化剂(oxygenating agent);其中涂敷于口腔中之硬表面后,该二氧化矽磨料之平均粒径减少16%至20%;其中该口腔组成物具有90至95的薄膜洁净比率、100至 120的放射性齿质磨损、且具有0.8至1的薄膜洁净比率(PCR)/放射性牙齿磨损(RDA)比率。
地址 美国