| 发明名称 | 包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒呈茧形，(B)非离子性表面活性剂，(C)包含至少一个酸基团(Y)的芳香化合物或其盐，及(M)水性介质。 | ||
| 申请公布号 | CN104412316A | 申请公布日期 | 2015.03.11 |
| 申请号 | CN201380036022.7 | 申请日期 | 2013.06.27 |
| 申请人 | 巴斯夫欧洲公司 | 发明人 | R·赖夏特;Y·李;M·劳特尔 |
| 分类号 | G09G1/02(2006.01)I;G09G1/14(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | G09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 王丹丹;刘金辉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒呈茧形，(B)非离子性表面活性剂，(C)包含至少一个酸基团(Y)的芳族化合物或其盐，及(M)水性介质。 | ||
| 地址 | 德国路德维希港 | ||