| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für eine Projektionsbelichtungsanlage insbesondere EUV-Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Spiegelfläche (2) und einem Spiegelkörper (11), an dem die Spiegelfläche einstückig angeordnet ist, und/oder einem Spiegelgehäuse, in dem der Spiegelkörper gelagert ist, wobei in dem Spiegelkörper und/oder dem Spiegelgehäuse mindestens ein oder mehrere Kühlräume (3, 5) ausgebildet sind, durch die ein Kühlmedium leitbar ist, sowie ein Verfahren zur Kühlung einer Spiegelanordnung. |
