发明名称 |
高度Xジブロックコポリマーの製造、精製及び使用 |
摘要 |
本発明は、高度X(「カイ」)ジブロックコポリマーの製造及び精製に関する。このようなコポリマーは、有意に異なる相互作用パラメータを有するポリマーの2つのセグメント(「ブロック」)を含み、誘導自己組織化用途に用いることができる。 |
申请公布号 |
JP2015507065(A) |
申请公布日期 |
2015.03.05 |
申请号 |
JP20140556767 |
申请日期 |
2013.02.11 |
申请人 |
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
ウィリアム・ブラウン・ファーナム;マイケル・トーマス・シーン;ホアン・ヴィ・トラン |
分类号 |
C08L53/00;C08F297/00;C08L25/00;C08L33/04;C08L39/08 |
主分类号 |
C08L53/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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