发明名称 高度Xジブロックコポリマーの製造、精製及び使用
摘要 本発明は、高度X(「カイ」)ジブロックコポリマーの製造及び精製に関する。このようなコポリマーは、有意に異なる相互作用パラメータを有するポリマーの2つのセグメント(「ブロック」)を含み、誘導自己組織化用途に用いることができる。
申请公布号 JP2015507065(A) 申请公布日期 2015.03.05
申请号 JP20140556767 申请日期 2013.02.11
申请人 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 ウィリアム・ブラウン・ファーナム;マイケル・トーマス・シーン;ホアン・ヴィ・トラン
分类号 C08L53/00;C08F297/00;C08L25/00;C08L33/04;C08L39/08 主分类号 C08L53/00
代理机构 代理人
主权项
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