发明名称 マイクロ波加熱装置
摘要 本発明のマイクロ波加熱装置における加熱室入力部(107)は、導波管(106)内を伝送して、マイクロ波放射部(108)の形成位置を通過したマイクロ波を加熱室(103)に導き、導波管内を伝送しているマイクロ波を進行波で支配的な状態として、マイクロ波放射部が、導波管内を伝送している進行波に基づくマイクロ波を加熱室内に放射して、回転機構を用いることなく被加熱物を均一に加熱する。
申请公布号 JPWO2013018358(A1) 申请公布日期 2015.03.05
申请号 JP20130526757 申请日期 2012.07.31
申请人 パナソニック株式会社 发明人 貞平 匡史;細川 大介;吉野 浩二;信江 等隆;大森 義治
分类号 H05B6/72;H05B6/64;H05B6/74 主分类号 H05B6/72
代理机构 代理人
主权项
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