| 摘要 |
<p>光ディスク製造装置（２００）においては、移動機構（２０８）は、（ｉ）レーザ照射部（２０３）が光ディスク（１０１）の内周側領域（１０９）の位置から識別情報記録領域（１１０）の位置に移動する間における第１の半径位置（Ｒ２ａ）において、レーザ照射部（２０３）の移動速度を第１の速度（Ｖｉ）から第２の速度（Ｖｓ）に変更し、（ｉｉ）レーザ照射部（２０３）が第２の速度（Ｖｓ）で識別情報記録領域（１１０）の位置に至った第２の半径位置（Ｒ２）において、同移動速度を第２の速度（Ｖｓ）から第３の速度（Ｖｉ）に変更する。第２の速度（Ｖｓ）は、第１の速度及び第３の速度よりも遅く設定される。レーザ照射部（２０３）は、識別情報記録領域（１１０）を移動するとき、記録層（１０４）が結晶化するのに必要な第１のパワー（Ｐａ）と結晶化させない程度に低い第２のパワー(Ｐｂ)とを交互に切り換えながらレーザ光を照射して識別情報を記録する。</p> |
