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发明名称
高度Xジブロックコポリマーの製造、精製及び使用
摘要
本発明は、高度X(「カイ」)ジブロックコポリマーの製造及び精製に関する。このようなコポリマーは、有意に異なる相互作用パラメータを有するポリマーの2つのセグメント(「ブロック」)を含み、誘導自己組織化用途に用いることができる。
申请公布号
JP2015507066(A)
申请公布日期
2015.03.05
申请号
JP20140556772
申请日期
2013.02.11
申请人
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人
ウィリアム・ブラウン・ファーナム;マイケル・トーマス・シーン;ホアン・ヴィ・トラン
分类号
C08J3/12
主分类号
C08J3/12
代理机构
代理人
主权项
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