| 发明名称 |
ステージシステム及びリソグラフィ装置 |
| 摘要 |
可動ステージシステムは、リソグラフィプロセスの実施対象であるオブジェクトを支持するように構成される。ショートストローク部はオブジェクトを支持するように構成され、ロングストローク部はショートストローク部を支持するように構成される。ショートストローク部は、ロングストローク部に対して比較的小さい範囲にわたって移動可能である。ロングストローク部は、ロングストローク部を支持するように配置されたベース支持体に対して比較的大きい範囲にわたって移動可能である。ショートストローク部とロングストローク部との間に遮蔽要素が配置されている。位置制御システムは、遮蔽要素とショートストローク部との間に実質的に一定の距離を維持する。【選択図】図２ |
| 申请公布号 |
JP2015507369(A) |
申请公布日期 |
2015.03.05 |
| 申请号 |
JP20140555159 |
申请日期 |
2013.01.25 |
| 申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．;コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ |
发明人 |
ヴァン デ ヴェン，バスチアーン，ランバータス，ウィルヘルムス;デ グロート，アントニウス，フランシカス，ヨハネス;フェルメーレン，ヨハネス，ペトラス，マルティヌス，ベルナルドス;カデー，セオドルス，ペトルス，マリア;レイス，ロベルタス，マティス，ゲラルドス;ファン リーシュート，リチャード，ヘンリカス，アドリアヌス |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F9/00;H01L21/68 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
