| 摘要 |
炭素濃度が高く、酸素濃度が低く、耐熱性が比較的に高く、溶媒溶解性も比較的に高く、湿式プロセスが適用可能な、新規なリソグラフィー用下層膜形成材料等を提供する。本発明のリソグラフィー用下層膜形成材料は、下記一般式（１）で示される化合物を含有することを特徴とする。【化１】（式（１）中、Ｘは、各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｒ１は、各々独立して、単結合又は炭素数１〜３０の２ｎ価の炭化水素基であり、該炭化水素基は、環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子若しくは炭素数６〜３０の芳香族基を有していてもよく、Ｒ２は、各々独立して、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基又は水酸基であり、但し、Ｒ２の少なくとも１つは水酸基であり、ｍは、各々独立して、１〜６の整数であり、ｎは、１〜４の整数である。） |
