摘要 |
<p>半導体発光素子は、種結晶基板上にフラックス法によってフラックスおよび13族元素を含む融液から窒素含有雰囲気下に育成された13族元素窒化物膜3、13族元素窒化物膜3上に設けられたn型半導体層21、n型半導体層21上に設けられた発光領域23および発光領域上に設けられたp型半導体層25を備える。13族元素窒化物膜3の種結晶基板側の界面11aから50μm以下の領域に設けられる、融液の成分に由来するインクルージョンが分布するインクルージョン分布層3aと、インクルージョン分布層上に設けられた、インクルージョンに乏しいインクルージョン欠乏層2bとを含む。</p> |