| 发明名称 | 用于抛光钼的组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于抛光含钼金属的表面的组合物和方法。本文中描述的抛光组合物(浆料)包含悬浮于包含水溶性表面活性物质和氧化剂的酸性含水介质中的无机粒状研磨剂材料(例如，氧化铝或二氧化硅)的研磨剂浓缩物。所述表面活性物质是基于所述粒状研磨剂的ζ电位选择的，使得当所述研磨剂具有正的ζ电位时，所述表面活性物质包括阳离子型物质，和当所述粒状研磨剂具有负的ζ电位时，所述表面活性物质包括阴离子型物质、非离子型物质、或其组合。 | ||
| 申请公布号 | CN104395425A | 申请公布日期 | 2015.03.04 |
| 申请号 | CN201380030768.7 | 申请日期 | 2013.06.10 |
| 申请人 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 发明人 | P.辛格;L.琼斯 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 用于抛光含钼基材的含水化学‑机械抛光(CMP)组合物，所述组合物包含具有在3‑6范围内的pH的含水载体且在使用点处包含：(a)选自二氧化硅研磨剂和氧化铝研磨剂的粒状研磨剂；(b)水溶性表面活性物质；和(c)氧化剂；其中所述表面活性物质是基于所述粒状研磨剂的ζ电位选择的，使得当所述研磨剂具有正的ζ电位时，所述表面活性物质包括阳离子型物质，和当所述粒状研磨剂具有负的ζ电位时，所述表面活性物质包括阴离子型物质、非离子型物质、或其组合。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||