发明名称 放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法
摘要 本发明的目的在于,提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法;所述放射线敏感性树脂组合物含有:[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂。<img file="DDA0000596609460000011.GIF" wi="1224" he="528" />
申请公布号 CN104391429A 申请公布日期 2015.03.04
申请号 CN201410593866.8 申请日期 2010.11.16
申请人 JSR株式会社 发明人 切通优子;成冈岳彦;西村幸生;浅野裕介;川上峰规;中岛浩光
分类号 G03F7/039(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;C08F220/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/039(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 左嘉勋;顾晋伟
主权项 一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:[A]具有以下式(1‑2)表示的结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂;<img file="FDA0000596609440000011.GIF" wi="528" he="537" />式(1‑2)中,R<sup>1</sup>为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基;式(1‑2)中,R<sup>5</sup>为烷基;R<sup>6</sup>为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基;R<sup>6</sup>多个存在时,多个R<sup>6</sup>相同或不同;R<sup>6</sup>的氢原子的一部分或者全部可以被取代;e为1或者2;f为0~5的整数;[A]聚合物进一步具有以下式(2‑2)表示的结构单元(Ⅱ);<img file="FDA0000596609440000012.GIF" wi="487" he="687" />式(2‑2)中,R<sup>1</sup>为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基;式(2‑2)中,R<sup>7</sup>为(g+1)价的连接基团;R<sup>8</sup>为氢原子或者1价的有机基团;R<sup>8</sup>多个存在时,多个R<sup>8</sup>相同或不同;Rf<sup>2</sup>和Rf<sup>3</sup>各自独立地为氢原子、氟原子或者碳原子数1~30的氟代烃基;其中,Rf<sup>2</sup>和Rf<sup>3</sup>两者不同时为氢原子;Rf<sup>2</sup>或Rf<sup>3</sup>多个存在时,多个Rf<sup>2</sup>和Rf<sup>3</sup>彼此相同或不同;g为1~3的整数。
地址 日本东京都