发明名称 |
薄膜形成设备及方法、压电元件形成方法、排放头和设备 |
摘要 |
本发明公开了一种薄膜形成设备、薄膜形成方法、压电元件形成方法、液滴排放头和喷墨记录设备,所述薄膜形成设备用于利用喷墨方法在衬底上形成薄膜,该薄膜形成设备包括:墨水施加单元,该墨水施加单元将用于薄膜形成的墨滴施加到衬底表面上的预定区域;至少一个激光源,用于加热墨滴由此形成薄膜;以及激光照射单元,该激光照射单元用来自激光源的激光照射位于衬底预定区域的后侧上的第一点,其中在所述预定区域上已经施加了墨滴。 |
申请公布号 |
CN102407665B |
申请公布日期 |
2015.03.04 |
申请号 |
CN201110214831.5 |
申请日期 |
2011.07.29 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
木平孝和;秋山善一;町田治;八木雅广;田代亮 |
分类号 |
B41J2/045(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/045(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
张祥 |
主权项 |
一种薄膜形成设备,用于利用喷墨方法在衬底上形成薄膜,该薄膜形成设备包括:墨水施加单元,该墨水施加单元将用于薄膜形成的墨滴施加到衬底表面上的预定区域;至少一个激光源,用于加热墨滴由此形成薄膜;以及激光照射单元,该激光照射单元用来自所述激光源的激光照射位于衬底预定区域的后侧上的第一点,其中在所述预定区域上已经施加了墨滴,其中,由金属材料形成的电极形成在所述衬底表面上,并且所述预定区域形成在所述电极上。 |
地址 |
日本东京都 |