| 发明名称 | 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，该阵列基板的制作方法包括：在衬底基板上方形成第一金属薄膜；对所述第一金属薄膜进行图案化处理，在所述衬底基板的第一区域上方形成阴极的图形，在所述衬底基板的第二区域上方形成栅极的图形。本发明通过一次构图工艺将发光二极管的阴极层与薄膜晶体管的栅极层同时形成在衬底基板的不同区域，能够减少阵列基板制作工艺的复杂度和工艺时间，简化有机电致发光面板的制作工序，降低制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104393017A | 申请公布日期 | 2015.03.04 |
| 申请号 | CN201410602733.2 | 申请日期 | 2014.10.31 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 刘政;陆小勇;李小龙;刘建宏;龙春平 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上方形成第一金属薄膜；对所述第一金属薄膜进行图案化处理，在所述衬底基板的第一区域上方形成阴极的图形，在所述衬底基板的第二区域上方形成栅极的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||