| 发明名称 | 蚀刻组合物 | ||
| 摘要 | 本公开涉及含有约60％至约95％的至少一种磺酸；约0.005％至约0.04％的氯化物阴离子；约0.03％至约0.27％的溴化物阴离子；约0.1％至约20％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和约3％至约37％的水的蚀刻组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN104395502A | 申请公布日期 | 2015.03.04 |
| 申请号 | CN201380016216.0 | 申请日期 | 2013.07.31 |
| 申请人 | 富士胶片电子材料美国有限公司;富士胶片株式会社 | 发明人 | 高桥和敬;水谷笃史;高桥智威 |
| 分类号 | C23F1/16(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人 | 贾媛媛 |
| 主权项 | 一种蚀刻组合物，包含：约60％至约95％的至少一种磺酸；约0.005％至约0.04％的氯化物阴离子；约0.03％至约0.27％的溴化物阴离子；约0.1％至约20％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和约3％至约37％的水。 | ||
| 地址 | 美国罗德岛州 | ||