带电粒子射束微影系统以及目标物定位装置;CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET POSITIONING DEVICE

摘要

本发明系关于一种带电粒子射束微影系统，其包括：一带电粒子光学柱，其会被排列在一真空室之中，用以将一带电粒子射束投射至一目标物之上，其中，该带电粒子光学柱包括偏折构件，用以将该带电粒子射束偏折在一偏折方向中，一目标物定位装置，其包括一用于携载该目标物的载体，以及一用于携载并且沿着第一方向来移动该载体的平台，其中，该第一方向不同于该偏折方向，其中，该目标物定位装置包括一第一致动器，用于相对于该带电粒子光学柱而在该第一方向中移动该平台，其中，该载体系以可移动的方式被排列在该平台之上，且其中，该目标物定位装置包括固持构件，用于依照该平台而将该载体固持在第一相对位置中。