基板转移暨处理系统及其设备

摘要

一种基板转移暨处理系统及其设备。其中基板转移暨处理设备适用于使一处理液体均匀在一基板上进行制程步骤，基板转移暨处理设备包含：一槽体；至少一反应槽室，设置于槽体内，用以提供处理液体与基板进行制程步骤，每一反应槽室包含一用以容置处理液体的处理容积；一限位单元，设置于槽体内，用以限制基板立于槽体内；及一流体循环系统，至少具有一驱动装置，流体循环系统驱动该处理液体于处理容积内循环流动，用以使处理液体均匀在立于槽体内的基板上进行一制程步骤。