薄膜封装层制造设备及使用其制造显示设备之方法;THIN FILM ENCAPSULATION LAYER MANUFACTURING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING A DISPLAY APPARATUS USING THE SAME

摘要

提供一种薄膜封装层制造设备，其可包括一传送腔室、一溅镀腔室、一单体沉积腔室、一化学气相沉积(CVD)腔室、以及一原子层沉积(ALD)腔室。该传送腔室可连接至各该其他腔室且可经配置以排列一基材。各该其他腔室可经配置以接收来自该传送腔室之一基材及传送一基材至该传送腔室。该溅镀腔室可经配置以藉由一溅镀制程而形成一第一无机层于该基材上。该单体沉积腔室可经配置以沉积一第一有机层于该第一无机层上。该CVD腔室可经配置以形成一第二无机层于该第一有机层上。该ALD腔室可经配置以形成一第三无机层于该第二无机层上。