| 主权项 |
一种自由基清净装置，其特征为：系在具备有真空槽之自由基清净装置中，于该真空槽内设置有载置被处理基板之基板支持平台，并且，系具备有：μ波施加手段或高频施加手段；和藉由该μ波施加手段或高频施加手段而使电浆产生之电浆产生室；和被设置在该电浆产生室之下方并且被连接有高频电源之第1喷淋板；和被设置在该第1喷淋板之下的兼作为放电电极之第2喷淋板，在该第1喷淋板之下以及该第2喷淋板之上，系具备有藉由该第1喷淋板和第2喷淋板所区划出之自由基产生室，并构成为：对于该被处理基板进行蚀刻，并以将蚀刻残留生成物除去的方式来进行自由基清净。
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