磁记录膜用溅镀靶及用于其制造之碳原料

摘要

本发明系一种溅镀靶，系由合金、及分散于该合金中之非磁性材料构成，该合金具有Pt为5~60mol%且剩余部分由Fe构成之组成，该溅镀靶之特征在于：其至少含有5~60mol%之C作为非磁性材料，且靶之相对于溅镀面之垂直剖面中之C粒子之平均粒子面积为50μm 2 以上。本发明之课题在于提供一种可于不使用昂贵之同步溅镀装置之情况下制作热辅助磁记录媒体之磁性薄膜，且减少溅镀时产生之微粒量之溅镀靶。