发明名称 |
含有机污染物之场址的化学还原整治方法 |
摘要 |
一种含有机污染物之场址的化学还原整治方法,该有机污染物含有可被还原有机污染物,该方法包含:(a)调配硷性抗坏血酸溶液,其pH值范围为11.8以上,其中,该硷性抗坏血酸溶液是由抗坏血酸及硷性试剂混合而得,该硷性试剂是用于使该硷性抗坏血酸溶液的pH值范围为11.8以上;(b)将该硷性抗坏血酸溶液加入该场址中,以获得pH值范围为11.8以上的混合液;及(c)使该混合液中的可被还原有机物进行还原反应而获得处理液。本发明整治方法藉由使用硷性抗坏血酸溶液而能有效地去除场址中的有机污染物。 |
申请公布号 |
TW201507980 |
申请公布日期 |
2015.03.01 |
申请号 |
TW102129483 |
申请日期 |
2013.08.16 |
申请人 |
国立中兴大学 NATIONAL CHUNG-HSING UNIVERSITY |
发明人 |
梁振儒 LIANG, CHENJU;林雅婷 LIN, YA TING |
分类号 |
C02F1/70(2006.01);C02F1/66(2006.01);B09C1/08(2006.01) |
主分类号 |
C02F1/70(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
高玉骏杨祺雄 |
主权项 |
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地址 |
台中市南区国光路250号 TW |