发明名称 制造一膜元件的方法
摘要
申请公布号 TWI474935 申请公布日期 2015.03.01
申请号 TW098106812 申请日期 2009.03.03
申请人 良合库尔兹创建公司 发明人 布雷姆 路德维希;卡裘雷克 海默;劳斯 诺伯特
分类号 B42D25/40;B42D25/36 主分类号 B42D25/40
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种制造一膜元件(25)的方法,该膜元件(25)具有互相对齐的金属层(11)(16),其特征在:将一第一金属层及一遮罩层(13)利用互相同步之产生构造的(且宜为光学的)程序互相准确配合地构造化,该第一金属层设在一可挠性的单层或多层的载体膜(10)的一第一表面上,该遮罩层(13)设在该载体膜(10)之与该第一表面相反的第二表面上;在该第一金属层(11)与遮罩层(13)作过构造化后,将一个或数个其他的层(15)施到该第一金属层(11)上;将一第二金属层(16)施到该一个或数个其他的层(15)上;将一第一可用光活化的层(17)施到该第二金属层(16)上。将该第一可用光活化的层(17)利用穿透曝光方式从该遮罩层(13)的那一侧利用一种波长的电磁波穿过该遮罩层(13)、第一金属层、该一个或数个其他的层(15)、以及该第二金属层(16)而作构造化,该第一可光活化的层(17)对此波长的电磁波敏感;其中该遮罩层(13)与该第一金属层(11)的厚度与材料选设成使得在这种用于穿透曝光方式使用的电磁波的波长的场合,该遮罩层(13)与该第一金属层的穿透程度的比例大于或等于1:10。
地址 德国