基板处理装置;APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

摘要

本发明揭示一种基板处理装置。该基板处理设备包含：一腔室，透过其一侧内定义的一通道传输基板至该腔室或从该腔室传输基板，该腔室具有一开放式上半部；一内部反应管，其连接至该腔室来提供一内部空间，其中执行有关该等基板的一处理，该内部反应管具有复数个支撑尖端，沿着其一内侧表面突出；一晶舟，其包含一垂直框架，其中在其垂直方向内定义复数个支撑槽，该晶舟可在该内部空间之内升降；阻挡板，其位于该垂直框架上，如此该等阻挡板彼此相隔，该等阻挡板位于该等支撑槽、该最上方支撑槽的上半部以及该最下方支撑槽的下半部之间；阻挡环，其位于该等支撑尖端的上半部上，分别从该等支撑尖端朝向该内部反应管的内部突出；喷嘴，其插入该内部反应管的一侧并且沿着该内部反应管的一垂直方向放置，该等喷嘴位于该等支撑尖端之间，以供应一处理气体至该等基板上；以及排气嘴，其插入该内部反应管的另一侧并且沿着该内部反应管的该垂直方向放置，该等排气嘴位于该等支撑尖端之间来排放该处理气体。