发明名称 电浆处理装置;PLASMA PROCESS APPARATUS
摘要 本发明提供一种电浆体处理装置,可以提升在天线的长度方向上的基板处理的均匀性。天线形成将高频电极收纳在电介质盒内的构造。高频电极形成:使2片电极导体以两者作为整体来呈现矩形板状的方式,相互隔开间隙且接近并平行地配置,且利用导体将两电极导体的长度方向的其中一端彼此连接而构成返回导体构造,且高频电流相互逆向地流向两电极导体。且在电极导体的间隙侧的边形成开口部,将该开口部以多个分散并配置在高频电极的长度方向。将该天线以高频电极的主面与基板的表面成为实质上相互垂直的方向而配置在真空容器内。
申请公布号 TW201508810 申请公布日期 2015.03.01
申请号 TW103128888 申请日期 2014.08.22
申请人 日新电机股份有限公司 NISSIN ELECTRIC CO., LTD. 发明人 安东靖典 ANDO, YASUNORI;入泽一彦 IRISAWA, KAZUHIKO;岸田茂明 KISHIDA, SHIGEAKI;千叶理树 CHIBA, MASAKI
分类号 H01J37/32(2006.01) 主分类号 H01J37/32(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址 日本 JP;